光源選配需優先匹配反應機理，廣譜多體系實驗優先選光譜覆蓋范圍廣的氙燈光源，適配可見光催化、模擬自然光等場景；單一靶向波段反應選單色性優異的LED光源，減少雜光帶來的額外熱干擾。同時要確認光路與釜體的適配形式，頂照式適配多工位平行對照實驗，側照式更貼合大容積反應體系，避免光照分布不均降低光利用率。

　　控溫系統要滿足光熱解耦要求，避免加熱結構遮擋光路、造成光強分布不均。根據反應體系特性確認控溫范圍與溫控響應速度，強放熱反應要預留充足的制冷余量，避免工藝峰值階段溫度失控；對溫度敏感度高的反應，要選擇帶高精度PID調節的控溫模塊，減少溫度超調與滯后，保障光熱協同條件的精準可控。

　　耐壓選型不能僅看公稱容積，要結合反應體系的相態、反應峰值壓力確定設計壓力，同時確認釜體材質適配反應介質的耐腐需求，強酸強堿體系要選用耐腐內襯材質，配套超壓泄放、超溫斷電等安全防護結構，杜絕高壓工況下的安全隱患。